我们都知道纳米颗粒由于具有大的表面能，拥有自聚集效应。在一个平坦的表面，表面堆积一层纳米颗粒，随着温度的上升，一般可能会出现纳米颗粒之间的聚集和相互作用。而后才与平坦表面发生作用。经典测试表明，金属之...

脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点。脉冲可...

自1852年，格洛夫发现阴极溅射现象，对于溅射技术的运用便逐步发展起来，从上世纪80年代至今，磁控溅射技术在表面工程领域占据的地位。磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄...

真空蒸镀法与溅射镀膜技术不同区别的介绍一、真空蒸镀法真空蒸镀是将装有基片的真空室抽成真空,然后加热被蒸发的镀料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到基片表面,凝结形成固体薄膜的技术.根据蒸...

真空镀膜是一种常见的表面处理工艺，常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤：1.基材清洗：将待处理的基材表面进行清洗，以去除表面的油污、灰尘等杂质，确保表面干净。2....

HiPIMS-400是新铂科技针对高校镀膜实验需求设计的一款高功率脉冲磁控溅射电源。可以实现脉冲+直流的组合输出。这款电源具有如下优势：完整可控&可视化调节的参数1.可视化脉冲参数调节高达7项个性化参...

-引言-多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命，为获得性能良好的膜层，研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数，强化了膜层的结合力，硬度以及摩擦磨损的性能。-点睛-...

-引言-为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征，我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式，即电-磁场协同增强HiPIMS技术，该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电，增...

引言在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR...

镀膜电源是一种用于镀膜过程中的电力供应系统。它为镀膜工艺中的电解槽提供所需的电能，使金属离子在电解过程中沉积到基材上，形成一层薄膜。镀膜电源通常由以下几个组件组成：电源控制单元：这是镀膜电源的核心部分...

HiPIMS放电使用的脉冲持续时间范围从几微秒到几百微秒，而脉冲重复频率范围从~10Hz到~10kHz。在这些条件下，HiPIMS放电的峰值电流密度可以达到A/m2量级，而DCMS只有A/cm2量级，...

摘要：高功率脉冲光磁控溅射（HiPIMS）沉积速率低，一直受到行业诟病，甚至成为其大批量应用的瓶颈。但是近些年国内外的科学家还是下了很多功夫进行攻关。下面将予以典型论述和分析。点睛：提高HiPIMS镀...

HIPIMS（HighPowerImpulseMagnetronSputtering）脉冲电源控制模式是一种在薄膜沉积技术中广泛应用的电源控制方式。它通过特定的脉冲参数设计和电源控制，实现了对溅射过程...

真空镀膜时用到高纯气体的原因，可以归结为以下几点，下面将进行详细阐述：一、减少杂质影响，提升薄膜质量在真空镀膜过程中，薄膜的质量直接受到所用气体纯度的影响。高纯气体通常指纯度较高、杂质含量较低的气体，...

HIPIMS（HighPowerImpulseMagnetronSputtering，高功率脉冲磁控溅射）物理气相沉积（PVD）技术，它通过使用高峰值功率和低占空比的脉冲电源来实现材料的溅射。这种技术...

HIPiMS技术在沉积过程中，通过控制一系列工艺参数，可以有效地调控薄膜的微观结构。这些参数包括但不限于功率、脉冲频率、气体压力、基底温度等。以下是详细说明：1.功率控制HIPiMS技术的核心是使用高...

HIPiMS（High-PowerImpulseMagnetronSputtering，高功率脉冲磁控溅射）技术因其独特的物理和化学特性，在多个工业和科学研究领域有着广泛的应用。以下是HIPiMS技术...

真空镀膜技术实现多层膜的沉积主要通过以下几种方式：一、交替沉积法这是常见的实现多层膜沉积的方法。首先，将需要镀膜的基材放置在真空镀膜设备的真空腔室内。然后，根据设计的多层膜结构，依次选择不同的镀膜材料...

一般来说，真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下，镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比，真空镀膜减少了杂质和氧化的影响，从而有利于提高镀膜与...